Centre for Nanoscience
and Nanotechnology

  • CNRS

PIMENT Platform

Aligner Süss MJB4 1

Mask aligner system   /   SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH*

Contacts :   HAROURI   Abdelmounaim     /   DUPUIS   Christophe

Location : N.C.

MJB4 (Süss Microtec) Manual alignement

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    MJB4_2b
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    MJB4-1

Caractéristiques

  • Resolution   :   1µm
  • Wave length   :   320nm
  • Power   :   10mW
  • Min sample size   :   5mm
  • Max sample size   :   4"
Expertises

AZ5214

AZ5214 (positive mode) on Silicon

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Contacts : Abdelmounaim HAROURI /Christophe DUPUIS

AZ10XT

AZ10XT on gold / Si

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Contacts : Abdelmounaim Harouri/Christophe DUPUIS

Nlof2070

negative resist

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Contacts : Christophe Dupuis / Abdelmounaim HAROURI

Applications

Liftoff using negative resist

Au on nlof2070 resist

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Contacts : Christophe Dupuis / Abdelmounaim Harouri

Heterojunction bipolar transistor

(7) alignment levels

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Contacts : Christophe Dupuis

converging lens for solar cell

MaP resist

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Contacts : Christophe Dupuis