Centre for Nanoscience
and Nanotechnology

  • CNRS

PIMENT Platform

Aligner Süss MA BA6

Double-side mask / bond aligner system   /   SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH*

Contacts :   HAROURI   Abdelmounaim     /   DUPUIS   Christophe

Location : N.C.

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    ALIGNER Suss_MA_BA6
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    MA6Ba

Caractéristiques

  • Wave length   :   320nm
  • Resolution   :   900nm
  • Power   :   10mW
  • Min sample size   :   1cm
  • Max sample size   :   6"
Expertises

Bi-layer resist

AZ5214 / LOR

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Contacts : Abdelmounaim Harouri / Christophe Dupuis

Negative resist

nLof 2070

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Contacts : Abdelmounaim Harouri / Christophe Dupuis

Su8 on LOR

FOr Dry etch application

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Contacts : Christophe Dupuis

Applications

Lift-off Au/Ti

lbilayer AZ5214/LOR

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Contacts : Abdelmounaim Harouri/Christophe Dupuis

0.5 µm alignment on bipolar heterojunction transistor

critical alignment

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Contacts : Christophe dupuis

bridge technology

Bilayer Resin nLof 2070 and Shipley S1828

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Contacts : Christophe Dupuis