ICP-RIE STS Chlore

Chlorine ICP-RIE multiplex STS equipement   /   STS

Contacts :   ISAC   Nathalie     /   LE ROUX   Xavier

Equipment used for chlorine gas etching of various materials. Two different liners are available for a campains modes (III.V or metal material) use to avoid cross-contamination.

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    ICP Chlore STS
Expertises

Gravure GaAs

Premiers tests de gravure traversante

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Contacts : Nathalie Isac

Gravure aluminium

Gravure aluminium avec un masque en alumine pour obtenir de aluminium poreux

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Contacts : Emmanuel Lefeuvre / Nathalie Isac

Gravure ZnS

Gravure ZnS avec masque en silice

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Contacts : Jérémy Ruscica / Stéphane Guilet / Nathalie Isac

Gravure GaN

GaN avec masque résine S1818

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Contacts : Nathalie Isac